激光直写光刻机

生产厂家：苏大维格科技集团股份有限公司

设备型号：SVG-Microlab

购置日期：2023-04-18

大仪平台入网日期：2023-04-18

大仪平台仪器编号：2022009182

设备位置：北洋园校区49楼129室

设备负责人：杨帆

联系方式：fanyangphys@tju.edu.cn

主要功能及技术指标

• 采用空间光调制无掩模直写，可实现快速光刻

• 激光波长：405 nm

• 最小线宽：1 um

• 最小线宽间距：不大于 500 nm

• 套刻对准精度：500 nm 或更优

• 最大样品尺寸：10×10 cm²（4英寸），向下兼容

• 支持自动聚焦对准、步进式曝光、灰度曝光、激光拖曳曝光、多任务自动完成