反应离子刻蚀系统

生产厂家：北京三和联科技有限公司

设备型号：SHL-100-RIE

购置日期：2022-05-26

大仪平台入网日期：2023-04-18

大仪平台仪器编号：2022008734

设备位置：北洋园校区49楼129室

设备负责人：杨帆

联系方式：fanyangphys@tju.edu.cn

主要功能及技术指标

主要用于各种材料的刻蚀，包括硅基材料、金属、有机材料等。可用于各种微纳器件与结构的制作，是研究材料在低维度、小尺寸下物理行为的重要辅助工具。

• 支持样品尺寸：4 英寸，向下兼容

• 反应气体：Ar，O2，CF4，SF6

• 气体流量：0 - 300 sccm

• RF等离子体功率：300 W 可调，13.56 MHz，自动匹配

• 真空泵组：分子泵抽速 > 600 L/s，前级泵抽速 > 10 L/s

• 真空测量：电容薄膜真空计，0 mTorr -- 1 Torr，电动插板阀位置控压

• 样品控温范围：10 ℃ ~ 室温，±1 ℃

• 控制软件：全自动控制流程，带有 recipe 菜单

• 适用材料：硅基材料（Si、SiO2、SiNx、SiC ...）

III-V材料（InP、GaAs、GaN ...）， II-VI材料（CdTe ...）

金属材料（Al、Au、W、Ti、Ta ...）

有机材料（光刻胶、PMMA / HDMS、有机薄膜 ...）

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